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磁控溅射能起辉，但不能沉积
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我用射频磁控溅射，溅射Al靶，功率试过从80W增加到200W，时间为两小时。能起辉，但石英基片上没任何东西。之前反应溅射锌靶镀氧化锌，能镀出氧化锌，但怎么都不厚，而直接溅射锌（同一靶材），却没有沉积锌。 [ Last edited by qiuzc on 2012-3-23 at 09:11 ] |
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 反应磁控溅射 | 薄膜材料和器件表征 | 薄膜材料和器件制备 |
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13楼2014-03-05 13:32:08