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请教FT-IR测试硅薄膜数据中基线处理的问题
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2012-02-29 22:32:24
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专业: 高分子物理与高分子物理化
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dengwei_19: 回帖置顶 2012-03-01 16:47:33
在哪上面做的薄膜?先扫一个基底的,扣除后再扫si薄膜的.
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2楼
2012-03-01 15:09:40
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2012-03-01 19:44:53
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最佳答案 2012-03-02 10:42:46
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3楼
:
Originally posted by
qinweiib
at 2012-03-01 19:44:53:
谢谢,谢谢,还想请问一下:在扣除衬底信号后虽然直线基线不会穿过谱线,但基线看上去并不是一条直线,而是一条曲线,请问对于基线应该怎么处理?也可以推荐一些帖子,谢谢!
红外软件有调整基线的按钮,不过我不建议过度追求平、直,那样其实是失真的数据。
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2012-03-01 21:51:05
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2012-03-02 00:05:04
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5楼
:
Originally posted by
qinweiib
at 2012-03-02 00:05:04:
我们这个omnic的软件还真没有,请教一下硅薄膜的基线处理有什么可以遵循的原则吗?
这个说不上,数据处理不是关键阿,关键是要真实反映样品。我以前也是老想把它弄平,弄直,但是这样下来失真的利害。
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6楼
2012-03-02 10:08:23
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2012-03-02 10:42:35
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