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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 合成表征 » 除模板剂的氢氟酸浓度？
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匿名

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1楼 2012-02-15 14:26:42
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zhangxb8988

木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
surpassfish(金币+2): ★★★很有帮助 2012-02-17 09:40:30
20 ml of 3M ammonium hydrogen fluoride aqueous
solution
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2楼2012-02-16 13:11:08
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匿名

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3楼2012-02-17 09:53:44
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zhangxb8988

木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

nuaajsh(金币+1): 鼓励交流 2012-02-17 13:19:09
surpassfish(金币+1): ★★★★★最佳答案 2012-02-17 15:35:52
不需要，超声几分钟，然后静置就可以了，我一般静置过夜。
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4楼2012-02-17 11:27:06
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匿名

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5楼2012-02-17 15:36:06
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提拉米苏123

新虫 (小有名气)
引用回帖:
4楼: Originally posted by zhangxb8988 at 2012-02-17 11:27:06
不需要，超声几分钟，然后静置就可以了，我一般静置过夜。

请问您，一般0.5gSBA-15 用多少毫升的氟化氢铵去模板，不用搅拌，我一般都搅拌，拍TEM的效果特别不好，不知道是不是搅拌的原因，请您指点一下
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6楼2015-03-06 14:10:46
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shine6832

至尊木虫 (正式写手)

Dr. XU
除氧化硅模板应该用HF或NH4HF2溶液。NH4F水解产生的HF浓度太低，不足以和氧化硅反应的。

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不沉溺幻想，不庸人自扰
7楼2015-03-06 16:58:15
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