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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 请教RIE刻蚀PS球的工艺参数
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liefchow

新虫 (初入文坛)

[交流] 请教RIE刻蚀PS球的工艺参数 已有4人参与

大家好！第一次在小木虫发帖请教，应该没有发错地方吧。
我最近想用RIE刻蚀PS球，将PS球的直径减小。昨天按照文献上的做了两个样品，都失败了。文献中用的功率是30W，但是我发现30W根本不能起辉，于是增加到50W。不过，刻蚀了1分钟，居然把球全部刻蚀掉了。郁闷。
我想知道大家刻蚀PS球的时候，用的参数是怎样的？如气压，功率，氧气流速，时间等参数都是怎样的？
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1楼 2012-05-28 09:40:12
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匿名

用户注销 (初入文坛)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
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2楼2012-05-28 13:46:16
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liefchow

新虫 (初入文坛)
谢谢，我正在摸参数，之前因为对设备不熟悉，是别人帮我做的，对设备不够了解。
现在我自己操作RIE了，发现其实31W就可以起辉的，做了几个样品，想请人帮我测试一下做的如何。
参数我会继续摸索的。
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3楼2012-05-31 19:46:42
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haerbin06

铜虫 (小有名气)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
参数必须自己摸索的,没办法了...
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我很好
4楼2012-05-31 20:13:07
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liefchow

新虫 (初入文坛)
昨天又做了一天的实验，发现我的实验参数和文献中的差别很大啊！
430nm的球，我用50W,50SCCM条件刻蚀了24分钟，球依然坚强地存在。文献中用30W，30sccm刻蚀了120秒，就可以刻蚀掉一百微米这样。我用30W，30sccm的条件刻蚀了20分钟，球看起来没有任何变化。我不太清楚差别为什么会这么大。请大家帮我分析分析，为什么我刻蚀这么长时间，效果甚微？气体流速和刻蚀速率的关系是怎样的？你们做实验的时候，气压多大？
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5楼2012-06-07 09:27:57
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fpflxcb

新虫 (初入文坛)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
请问各位大虾，你们用的RIE刻蚀机是什么品牌和型号的啊，大概多少钱？主要用来对PS球刻蚀。
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6楼2013-10-13 21:33:17
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罗军王

银虫 (初入文坛)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
引用回帖:
5楼: Originally posted by liefchow at 2012-06-07 09:27:57
昨天又做了一天的实验，发现我的实验参数和文献中的差别很大啊！
430nm的球，我用50W,50SCCM条件刻蚀了24分钟，球依然坚强地存在。文献中用30W，30sccm刻蚀了120秒，就可以刻蚀掉一百微米这样。我用30W，30sccm的条 ...

请问你用的是什么型号的刻蚀机
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多看多读多学习
7楼2014-06-24 15:37:54
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