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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 请教RIE刻蚀PS球的工艺参数
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liefchow

新虫 (初入文坛)

[交流] 请教RIE刻蚀PS球的工艺参数 已有4人参与

大家好！第一次在小木虫发帖请教，应该没有发错地方吧。
我最近想用RIE刻蚀PS球，将PS球的直径减小。昨天按照文献上的做了两个样品，都失败了。文献中用的功率是30W，但是我发现30W根本不能起辉，于是增加到50W。不过，刻蚀了1分钟，居然把球全部刻蚀掉了。郁闷。
我想知道大家刻蚀PS球的时候，用的参数是怎样的？如气压，功率，氧气流速，时间等参数都是怎样的？
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1楼 2012-05-28 09:40:12
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haerbin06

铜虫 (小有名气)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
参数必须自己摸索的,没办法了...
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我很好
4楼2012-05-31 20:13:07
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