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【活动:文献学习】从一篇PRB文献学习界面建模,静电势分析及按原子层投影DOS分析方法
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第一性原理 | 第一原理资料汇编 | first principle | VASP算例 |
VASP | 表界面计算 |
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cenwanglai(金币+1):谢谢参与
cenwanglai(金币+50): 谢谢回复,有一点点小问题。 2011-12-28 20:36:54
cenwanglai: 回帖置顶 2011-12-28 20:53:51
cenwanglai(金币+1):谢谢参与
cenwanglai(金币+50): 谢谢回复,有一点点小问题。 2011-12-28 20:36:54
cenwanglai: 回帖置顶 2011-12-28 20:53:51
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2011-12-28 16:34:40, 24.07 K
24楼2011-12-28 16:32:23
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cenwanglai: 回帖置顶 2011-12-28 20:53:48
fzx2008(金币+2): 谢谢回帖交流! 2011-12-28 22:05:11
cenwanglai: 回帖置顶 2011-12-28 20:53:48
fzx2008(金币+2): 谢谢回帖交流! 2011-12-28 22:05:11
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我说一下我的思路吧,如果不对还请大家多多指教: 1、从ICSD数据库中找到LAO和STO的晶体结构导入到Material Studio中。 2、使用Surface切STO和LAO的表面,并构建相应的超晶胞。 3、使用Build Layers,构建(LAO)(STO)(LAO)层。 4、使用Build Vacuum Slab添加真空层。 疑问: 1、这个过程中,LAO和STO之间的层间距如何调整? 2、LAO和STO之间的层间距如何用Vasp进行优化? 3、STO晶格参数和LAO晶格参数不同,文献用STO做基地,STO晶格变形会产生应力,这个应力怎么计算? |
25楼2011-12-28 16:40:50
31楼2011-12-28 20:33:49
44楼2011-12-30 01:21:17
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cenwanglai(金币+1):谢谢参与
cenwanglai(金币+10): 谢谢valenhou001提供消息~ 2011-12-28 12:41:26
cenwanglai(金币+1):谢谢参与
cenwanglai(金币+10): 谢谢valenhou001提供消息~ 2011-12-28 12:41:26
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LaAlO3/SrTiO3界面体系的研究高潮已经快过去。有关这个体系的理论研究的综述可 Electronic Phenomena at Complex Oxide Interfaces: Insights from First Principles R. Pentcheva and W. E. Pickett J. Phys.: Condens. Matt. 22, 043001 (2010) 。W. E.Pickett组同其合作者对这个体系做的工作远比A. A. Demkov多。A. A. Demkov这个组做的东西都很细致。 |
9楼2011-12-28 12:34:29
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36楼2011-12-29 10:09:09
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sunyang1988(金币+2): 谢谢交流 2011-12-30 10:33:01
sunyang1988(金币+2): 谢谢交流 2011-12-30 10:33:01
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37楼2011-12-29 10:11:07
38楼2011-12-29 12:52:33
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39楼2011-12-29 14:03:30
40楼2011-12-29 16:07:10
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liliangfang(金币+1): 鼓励交流 2011-12-29 20:06:03
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liliangfang(金币+1): 鼓励交流 2011-12-29 20:06:03
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重新做了一个,还是层间距没法调整的问题,Material Studio中好像真的是没有办法调,看来只能手工调了。CryatalMaker中倒是可以方便地调整,但是只能画图用,没法输出好像。 新作的图: 附件 |
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