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关于热等静压烧结的两个问题
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关于热等静压烧结的两个问题 麻烦各位专家给解答一下,我会再追加金币的,谢谢。 第一个问题: 陶瓷的烧结制度其中有温度制度和压力制度。如果我用热等静压方法烧结一个体积较大的硅酸盐陶瓷零件,由于尺寸大和硅酸盐是热的不良导体两个原因,将导致陶瓷零件加热过程中温度场的分布不均匀,存在温度梯度,使零件外表面温度高,中间部分温度低,不管如何施加压力,总是外表面的烧结早于内部。 这样,是否可能存在以下两个问题:一是当外表面烧结晶体生长时,残存的气体会由于晶体由外往里生长的原因向零件中间部分移动,导致零件中间部分气孔多;二是由于烧结过程一般都是致密的过程,体积减少的过程,烧结时外表面早烧结定型,中间部分晚烧结,致体积收缩,如果施加压力较晚,超过外表面的抗压强度,可能导致零件断裂。 如果上述两个问题存在,一般如何解决?如何设计加热、加压关系? 第二个问题: 陶瓷材料的烧结温度一般与其熔点(Tm)有关,一般金属烧结是其熔点的0.3-0.4 Tm,无机盐烧结是其熔点的0.5-0.7Tm,硅酸盐烧结是其熔点的0.8-0.9 Tm。而有部分硅酸盐含有OH键,如滑石(Mg3Si4O8(OH)2)、蛇纹石(Mg6Si8O10(OH)8)、透闪石(Ca2Mg5Si8O22(OH)2)等,加热过程中先脱水分解,没有熔点,如何估计烧结温度? |
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2楼2011-10-19 08:55:48
yangzhangfu
金虫 (正式写手)
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- 专业: 无机非金属类光电信息与功
3楼2011-10-19 12:01:24
4楼2011-10-19 14:13:10
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6楼2011-10-20 15:34:19













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