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氧空位
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wm881204
铜虫
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[交流]
氧空位
请问在用磁控溅射镀制氧化物薄膜的过程中,氧空位一般在什么情况下产生?或者说在什么情况下容易产生氧空位,比方说反应溅射是富余氧或者氧含量少的情况下容易产生氧空位。反之,在直接氧化物靶材的情况下,氧空位又是如何产生的呢??
先谢过各位了!!
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1楼
2011-09-08 15:30:15
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wm881204
铜虫
(初入文坛)
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(幼儿园)
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在线: 4.3小时
虫号: 1135786
谢谢各位大神啊
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2楼
2011-09-08 15:30:38
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daividyuan
金虫
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★
wm881204(金币
+1
):谢谢参与
怎么没人回帖呢,我也学习一下啊
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3楼
2011-09-30 10:01:12
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liumiao05
至尊木虫
(知名作家)
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(幼儿园)
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★
wm881204(金币
+1
):谢谢参与
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4楼
2011-09-30 10:59:46
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kevinman
禁虫
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wm881204(金币
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):谢谢参与
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5楼
2011-10-13 05:38:35
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怨士无怨
铜虫
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帖子: 118
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虫号: 1407545
★
wm881204(金币
+1
):谢谢参与
引用回帖:
1楼
:
Originally posted by
wm881204
at 2011-09-08 15:30:15:
请问在用磁控溅射镀制氧化物薄膜的过程中,氧空位一般在什么情况下产生?或者说在什么情况下容易产生氧空位,比方说反应溅射是富余氧或者氧含量少的情况下容易产生氧空位。反之,在直接氧化物靶材的情况下,氧空位 ...
斑竹的回答已经很到位了 补充一点 氧空位也可能是与其它缺陷伴生的
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7楼
2011-10-14 17:33:45
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yangguihua
铜虫
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虫号: 1203485
★
wm881204(金币
+1
):谢谢参与
请问一下:有没有什么试验手段来表征氧空位的多少啊?
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8楼
2011-10-20 10:12:02
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qqllqq
6楼
2011-10-14 17:14
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wm881204(金币
+1
):谢谢参与
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