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wm881204

铜虫 (初入文坛)


[交流] 氧空位

请问在用磁控溅射镀制氧化物薄膜的过程中,氧空位一般在什么情况下产生?或者说在什么情况下容易产生氧空位,比方说反应溅射是富余氧或者氧含量少的情况下容易产生氧空位。反之,在直接氧化物靶材的情况下,氧空位又是如何产生的呢??
先谢过各位了!!
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kevinman

禁虫 (小有名气)


wm881204(金币+1):谢谢参与
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5楼2011-10-13 05:38:35
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