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wm881204

铜虫 (初入文坛)

应助: 0 (幼儿园)
金币: 175
帖子: 25
在线: 4.3小时
虫号: 1135786

[交流] 氧空位

请问在用磁控溅射镀制氧化物薄膜的过程中，氧空位一般在什么情况下产生？或者说在什么情况下容易产生氧空位，比方说反应溅射是富余氧或者氧含量少的情况下容易产生氧空位。反之，在直接氧化物靶材的情况下，氧空位又是如何产生的呢？？
先谢过各位了！！

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1楼 2011-09-08 15:30:15

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怨士无怨

铜虫 (小有名气)

应助: 4 (幼儿园)
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虫号: 1407545

★
wm881204(金币+1):谢谢参与

引用回帖:

1楼: Originally posted by wm881204 at 2011-09-08 15:30:15:
请问在用磁控溅射镀制氧化物薄膜的过程中，氧空位一般在什么情况下产生？或者说在什么情况下容易产生氧空位，比方说反应溅射是富余氧或者氧含量少的情况下容易产生氧空位。反之，在直接氧化物靶材的情况下，氧空位 ...

斑竹的回答已经很到位了补充一点氧空位也可能是与其它缺陷伴生的