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zljs

新虫 (初入文坛)

[求助] 可以用负胶做掩模刻蚀氮化硅吗?

目的:在硅片上刻蚀结构。
方法:先在硅片上镀一层氮化硅,用作硅刻蚀的硬掩模。在氮化硅上刻蚀结构时,使用光刻胶做掩模。我选用了SU-8光刻胶,但是涂胶的时候SU-8在片子上很难铺展开,而且很容易聚集成一块。请问有人遇到类似的情况吗?刻蚀氮化硅能用负胶做掩模吗?谢谢大家了~
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dugu

木虫 (小有名气)

SU 8 可能是极性分子/溶剂,如果是这样的,衬底需氧等离子体处理。
能不能做掩膜,需查下在刻蚀SiN的条件下,对掩膜的刻蚀速率。查一下光刻胶的使用说明应该能找到答案。
祝好运!
书生老去机会方来
6楼2011-09-15 11:25:19
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xishuang123

铁虫 (初入文坛)

不懂。。。围观学习
努力,拼搏,奋斗
2楼2011-08-29 20:38:47
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xiangnan121

至尊木虫 (正式写手)


金光闪闪2010(金币+1): Thank you for your information 2011-09-14 08:03:43
氮化硅刻蚀用什么?可以试下改变表面亲疏水性,适当提高转速。
另外,你用的是SU-8的哪个系列的?
3楼2011-09-12 19:26:28
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lulinsmann

木虫 (著名写手)

三无小小鸟


金光闪闪2010(金币+1): Thank you for your information 2011-09-14 08:03:53
可以,我们现在用的就是负胶(ma-N 2403),电子束曝光后用反应离子刻蚀获得氮化硅的结构
江湖背影
4楼2011-09-12 20:45:18
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