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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 可以用负胶做掩模刻蚀氮化硅吗？
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zljs

新虫 (初入文坛)

[求助] 可以用负胶做掩模刻蚀氮化硅吗？

目的：在硅片上刻蚀结构。
方法：先在硅片上镀一层氮化硅，用作硅刻蚀的硬掩模。在氮化硅上刻蚀结构时，使用光刻胶做掩模。我选用了SU-8光刻胶，但是涂胶的时候SU-8在片子上很难铺展开，而且很容易聚集成一块。请问有人遇到类似的情况吗？刻蚀氮化硅能用负胶做掩模吗？谢谢大家了~
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1楼 2011-08-29 19:29:08
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dugu

木虫 (小有名气)
SU 8 可能是极性分子/溶剂，如果是这样的，衬底需氧等离子体处理。
能不能做掩膜，需查下在刻蚀SiN的条件下，对掩膜的刻蚀速率。查一下光刻胶的使用说明应该能找到答案。
祝好运！
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书生老去机会方来
6楼2011-09-15 11:25:19
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xishuang123

铁虫 (初入文坛)
不懂。。。围观学习
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努力，拼搏，奋斗
2楼2011-08-29 20:38:47
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xiangnan121

至尊木虫 (正式写手)
★
金光闪闪2010(金币+1): Thank you for your information 2011-09-14 08:03:43
氮化硅刻蚀用什么？可以试下改变表面亲疏水性，适当提高转速。
另外，你用的是SU-8的哪个系列的？
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3楼2011-09-12 19:26:28
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lulinsmann

木虫 (著名写手)

三无小小鸟
★
金光闪闪2010(金币+1): Thank you for your information 2011-09-14 08:03:53
可以，我们现在用的就是负胶（ma-N 2403），电子束曝光后用反应离子刻蚀获得氮化硅的结构
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江湖背影
4楼2011-09-12 20:45:18
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