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【请教】掺杂中的XPS问题
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【请教】掺杂中的XPS问题
最近合成出掺杂的半导体氧化物纳米材料(In2O3中掺杂Zn),进行XPS表征后表明,C1s 在285.3eV 左右(问过测试老师需不需要用284.6eV进行校正,被告知已经校正过了,可能和我的材料为半导体有关),O 1s 的峰在530.2eV,In3d的峰和纯的氧化铟峰完全吻合,但是Zn2p的峰却在1022.4eV,1045.5eV,比纯相的向能量高的方向移动约0.7eV,查的一些文献很少出现这种情况,有的也没有进行解释,请问诸位大虾,这个应该怎么解释呢,有什么类似的文献吗?
PS,对这个材料进行什么性质测试好些?
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