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【求助】2273测微弧氧化膜阻抗怎么测
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jeanzhouqi
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【求助】2273测微弧氧化膜阻抗怎么测
用的是2273电化学工作站测AZ91D镁合金表面微弧氧化膜阻抗曲线,但是总是很乱,波动幅值从5、10、20、30mv都试过,但依然还是不行。频率范围为100KHz-10mHz。
涂层厚度在15um左右,已经进行过沸水水煮法封孔。全浸泡2周后,几乎没有失重,涂层表面开始发暗,没有观察到剥离现象。
测试前试样提前在腐蚀液3.5%NaCl中浸泡了有1h,动电位测试正常,就是EIS很乱。
请问有知道这方面的知识的虫友吗?
[
Last edited by jeanzhouqi on 2011-4-4 at 20:05
]
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jeanzhouqi
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Originally posted by
xiaobo286
at 2011-04-04 16:43:43:
不知楼主是在啥体系中测的,个人觉得,4楼的说得有道理,微弧氧化的膜具有多孔结构,所以建议将试样的膜浸泡在溶液中稳定至少30分钟后再测,可能效果稍好点。
我在腐蚀液中已经浸泡1h后才测的。。但是依然很乱,不过极化曲线做的很平滑,很漂亮
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8楼
2011-04-04 20:02:46
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jeanzhouqi
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newyorksam
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涂层导电性极差所致,我也遇到同样的问题,等待楼主解决问题。
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3楼
2011-04-04 11:36:11
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wenlei86
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jeanzhouqi(金币+5): 谢谢,我后来做过封孔,浸泡两周后,失重极少,几乎没有,没有出现明显的涂层剥离现象。。 2011-04-04 19:59:41
不是十分认同3L的观点,树脂的导电性比多孔的微弧氧化涂层要差很多,测出来的阻抗谱还是很漂亮的。不知道LZ涂层厚度是多少,腐蚀液用的什么溶液,我个人认为镁合金自身腐蚀性能很差,且微弧氧化涂层多孔,如果涂层较薄的话腐蚀液很容易渗透至基体,这样会导致镁合金基体被腐蚀,这样你实际测试的过程是一个动态的过程,可能是导致图谱散乱的原因。建议你做后一点的涂层,染后测试一下看看结果如何,如果实在不行就只能换仪器试试了,我用过2273和zahner,测出来的效果都很好,但是ivium测出来的图谱就很乱。个人建议,希望对LZ有所帮助。
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4楼
2011-04-04 15:13:41
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