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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 化学化工区 » 电化学 » 腐蚀防护 » 【求助】2273测微弧氧化膜阻抗怎么测
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jeanzhouqi

木虫 (小有名气)

[交流] 【求助】2273测微弧氧化膜阻抗怎么测

用的是2273电化学工作站测AZ91D镁合金表面微弧氧化膜阻抗曲线，但是总是很乱，波动幅值从5、10、20、30mv都试过，但依然还是不行。频率范围为100KHz-10mHz。
    涂层厚度在15um左右，已经进行过沸水水煮法封孔。全浸泡2周后，几乎没有失重，涂层表面开始发暗，没有观察到剥离现象。
    测试前试样提前在腐蚀液3.5%NaCl中浸泡了有1h，动电位测试正常，就是EIS很乱。
    请问有知道这方面的知识的虫友吗？

[ Last edited by jeanzhouqi on 2011-4-4 at 20:05 ]
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1楼 2011-04-01 21:03:20
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wenlei86

木虫 (小有名气)
jeanzhouqi(金币+5): 2011-04-06 20:47:32
引用回帖:
Originally posted by jeanzhouqi at 2011-04-05 10:10:12:
谢谢你的指点。
沸水封孔和硅酸盐封孔，通过点滴实验对比，两者变色时间相近，故选择沸水封孔，且我课题主要是研究微弧工艺，所以封孔并没有详细研究。
SEM观察由于近阶段SEM坏了，没法观察，待观察后才能知道 ...

测量不同浸泡时间的EIS不需要换新的试样,换了反而不能说明问题了，你可以将同一种涂层多准备几个试样，看看曲线的重复性怎么样。具体操作就是将一个试样封装好后浸泡在装有腐蚀液的电解池中，然后隔一段时间测试一次阻抗谱，浸泡初期可以每隔1,2个小时测一次，后期逐渐增加间隔时间，如果测试一次出现散乱的情况就多测几次，最好也不要更换腐蚀液。
关于阻抗谱为何会在低频端杂乱无章的原因没有见过相关报道，我也只是凭经验猜测的，我的意思是说你的试样浸泡一个小时之后开始测量，可能一个小时的浸泡时间使腐蚀液渗透至基体金属与涂层的界面处，导致基体金属发生腐蚀，这个腐蚀的过程实际上就是一个动态的过程了。你可以将试样浸泡5min或者10min左右测试一下，看看什么情况
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11楼2011-04-05 16:41:16
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jeanzhouqi

木虫 (小有名气)
沙发先自己坐等高手
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2楼2011-04-01 21:31:02
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newyorksam

金虫 (小有名气)
涂层导电性极差所致，我也遇到同样的问题，等待楼主解决问题。
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3楼2011-04-04 11:36:11
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wenlei86

木虫 (小有名气)
jeanzhouqi(金币+5): 谢谢，我后来做过封孔，浸泡两周后，失重极少，几乎没有，没有出现明显的涂层剥离现象。。 2011-04-04 19:59:41
不是十分认同3L的观点，树脂的导电性比多孔的微弧氧化涂层要差很多，测出来的阻抗谱还是很漂亮的。不知道LZ涂层厚度是多少，腐蚀液用的什么溶液，我个人认为镁合金自身腐蚀性能很差，且微弧氧化涂层多孔，如果涂层较薄的话腐蚀液很容易渗透至基体，这样会导致镁合金基体被腐蚀，这样你实际测试的过程是一个动态的过程，可能是导致图谱散乱的原因。建议你做后一点的涂层，染后测试一下看看结果如何，如果实在不行就只能换仪器试试了，我用过2273和zahner，测出来的效果都很好，但是ivium测出来的图谱就很乱。个人建议，希望对LZ有所帮助。
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4楼2011-04-04 15:13:41
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