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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 【求助】氢氟酸刻蚀硅片，粗糙度是怎么变化的啊？
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lzb7758520

铁杆木虫 (著名写手)

[交流] 【求助】氢氟酸刻蚀硅片，粗糙度是怎么变化的啊？ 已有12人参与

我最近想用10%氢氟酸刻蚀下硅片形成一定的粗糙度，可是文献中说法不一样啊，有的说随时间延长粗糙度会越来越大，有的说基本保持不变，到底哪个对啊？我针对的是抛光面。
不知谁有相关的文献提供下。

[ Last edited by lzb7758520 on 2011-3-16 at 14:10 ]
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梦想不能当饭吃啊
1楼 2011-03-16 14:09:37
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南通王

木虫 (正式写手)

我理解应该是使得表面平滑

★ ★
小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖交流
nuaajsh(金币+1): 鼓励交流 2011-03-17 22:55:26
貌似一般让硅表面平滑是用氢氟酸，因为能使得表面氢化或者说钝化，去除表面的二氧化硅。如果要使得表面粗糙，可以让溶液发生氧化还原反应或者电化学方法。
赞一下(2人) 回复此楼
8楼2011-03-17 21:52:59
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cyjpu

银虫 (正式写手)
★ ★
小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖交流
nuaajsh(金币+1): 鼓励交流 2011-03-17 22:54:49
跟你用的什么抛光片也有关系，（111）面和（100）面的腐蚀速率肯定也是不一样的。
赞一下(2人) 回复此楼
2楼2011-03-16 16:26:26
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lzb7758520

铁杆木虫 (著名写手)
引用回帖:
Originally posted by cyjpu at 2011-03-16 16:26:26:
跟你用的什么抛光片也有关系，（111）面和（100）面的腐蚀速率肯定也是不一样的。

我用的是p（100）面的，氢氟酸腐蚀能不能使粗糙度加大呢？
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梦想不能当饭吃啊
3楼2011-03-16 20:14:58
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vmuch520

至尊木虫 (文坛精英)
引用回帖:
Originally posted by lzb7758520 at 2011-03-16 14:09:37:
我最近想用10%氢氟酸刻蚀下硅片形成一定的粗糙度，可是文献中说法不一样啊，有的说随时间延长粗糙度会越来越大，有的说基本保持不变，到底哪个对啊？我针对的是抛光面。
不知谁有相关的文献提供下。

[ Last  ...

10%？太浓了吧？
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4楼2011-03-17 09:29:47
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