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铁杆木虫 (著名写手)

[交流] 【求助】氢氟酸刻蚀硅片，粗糙度是怎么变化的啊？已有12人参与

我最近想用10%氢氟酸刻蚀下硅片形成一定的粗糙度，可是文献中说法不一样啊，有的说随时间延长粗糙度会越来越大，有的说基本保持不变，到底哪个对啊？我针对的是抛光面。
不知谁有相关的文献提供下。

[ Last edited by lzb7758520 on 2011-3-16 at 14:10 ]

梦想不能当饭吃啊

1楼 2011-03-16 14:09:37

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木虫 (正式写手)

★ ★
小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖交流
nuaajsh(金币+1): 鼓励交流 2011-03-17 22:55:26

貌似一般让硅表面平滑是用氢氟酸，因为能使得表面氢化或者说钝化，去除表面的二氧化硅。如果要使得表面粗糙，可以让溶液发生氧化还原反应或者电化学方法。

8楼2011-03-17 21:52:59

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