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xiaobai216新虫 (初入文坛)
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【求助】继续讨论关于形成能的问题
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以金刚石结构的64原子硅晶胞为例: 在64-atom supercell中构建加入一个间隙位的氧原子,计算间隙氧原子的形成能。按照形成能公式 Ef=E[Si64Oi]-sum_nμ, 其中E[Si64Oi]是掺杂后的缺陷体系的能量,n是体系中不同原子的个数,μ是体系中各种原子的化学势;则 Ef=E[Si64Oi]-64E[Si]-E[Oi] 1. 这种计算方法正确吗?是否要考虑电价的影响即形成能公式中加入Q项? 2.如果采用这种计算方式的话,需要考虑原子的化学势,则: 1) μ可用单个原子的能量来代替吗?计算Si的单原子能量能否用一个完整的硅晶胞 计算单点能后除以晶胞中的原子个数来得到?之前也有讨论说建立一个大的空立方格子,在格子中心放一个硅原子做能量计算,我比较了两种方法,发现所得的能量有比较大的差值; 2)如果化学势可以用单个原子的能量来代替的话,那单个氧原子的能量怎么来计 算?之前有讨论说建立大的空格子在中心放一个氧分子,计算的能量后除以2得单个氧原子的能量,对吗? [ Last edited by xiaobai216 on 2010-10-27 at 12:19 ] |
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2楼2010-10-27 15:19:28

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7楼2010-10-27 21:52:02
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8楼2010-10-27 23:31:30
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xiaobai216(金币+5):谢谢,我觉得你说的很对,但用第一种方法得到的单个原子能量算得的空位形成能大的离谱,而第二种方法算得的与实验值倒是相近... 2010-10-28 12:09:25
cenwanglai(金币+2):谢谢回复! 2010-10-28 13:52:22
xiaobai216(金币+5):谢谢,我觉得你说的很对,但用第一种方法得到的单个原子能量算得的空位形成能大的离谱,而第二种方法算得的与实验值倒是相近... 2010-10-28 12:09:25
cenwanglai(金币+2):谢谢回复! 2010-10-28 13:52:22
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如果你计算的是单晶Si中惨杂O原子的能量变化,那么2楼为正解。关于单个原子的能量,你的第一种计算方法是正确的,即建立大的立方空胞,在空胞中心放一个原子计算其Gamma点的能量即可。后一种方法计算的不是单个原子在真空中的能量,而是在单晶Si中的平均能量,这显然不是你所需要的。计算惨杂O原子的能量也是一个道理,不能按分子氧进行。 |

9楼2010-10-28 10:43:27
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