| 查看: 989 | 回复: 0 | |||
[交流]
【求助】沉积薄膜时金属的溅射阈值怎么计算的
|
| 溅射制备薄膜时，大家是怎么计算阈值呢 |
回复此楼» 猜你喜欢
青椒八年已不青，大家都被折磨成啥样了？
已经有5人回复
-
青年基金C终止
已经有3人回复
-
26申博求博导推荐-遥感图像处理方向
已经有4人回复
-
限项规定
已经有7人回复
-
救命帖
已经有8人回复
-
招博士
已经有4人回复
-
西南交通大学国家级人才团队2026年博士研究生招生（考核制）—机械、材料、力学方向
已经有3人回复
-
英文综述是否需要润色及查重
已经有5人回复
-
为什么nbs上溴 没有产物点出现呢
已经有9人回复
找到一些相关的精华帖子，希望有用哦~
磁控溅射能起辉，但不能沉积
已经有21人回复
- 求助：反应磁控溅射制备氮化铬薄膜，靶电源用DC还是RF好呢？
已经有9人回复
- 射频磁控溅射镀金属靶材如何建立自偏压？
已经有5人回复
- 如何解释有机薄膜与溅射其上的金属薄膜的附着原理？
已经有8人回复
- 磁控溅射做薄膜失败了吗
已经有21人回复
- 求助：磁控溅射镀金属膜，镀不上去
已经有4人回复
- 【求助】用恒电位法做电沉积怎么样定量计算理论上沉积的金属量
已经有7人回复
- 【求助】请教磁控溅射金属膜问题
已经有23人回复
- 【请教】怎么测试等离子化学气相沉积（PECVD）的氮化硅薄膜内应力？
已经有5人回复
点击这里搜索更多相关资源科研从小木虫开始，人人为我，我为人人