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【求助】硅片的稳定钝化
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cqwssc
铜虫
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[交流]
【求助】硅片的稳定钝化
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Sample Text
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请教,常规切割的硅片,化学腐蚀去损伤层后,稳定钝化的方法。
由于设备原因,不考虑氮化硅气相沉积钝化;HF和碘酒钝化,本人也有实验,不太稳定。
请多多指教!从速啊!
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Jerry7733
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THESUNISFUTURE
1楼
2010-05-27 09:25:39
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2楼
:
Originally posted by
ddx-k
at 2010-05-27 10:27:03
热氧化sio2比较稳定,其他通过H+离子钝化都不稳定,碘酒也是一样的只是通过I+离子钝化而已,只是看你是用做什么的,钝化后立马去测寿命就可以了。
支持该观点,如果稳定钝化能轻易达到,生产制备就不那么麻烦了。如果主是了解一下硅片寿命,优化碘酒浓度和时间有利于提高测试准确度。如果你是要存放清洗后的硅片,可以加上一层氧化膜,用的时候用HF除去。在清洗并去除自然氧化层后,采用HNO3 70%(115摄氏度,10分钟)处理。
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6楼
2013-05-06 16:46:16
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ddx-k
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专业: 无机非金属类光电信息与功
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物理
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cqwssc(金币+1): 2010-05-28 10:11:22
小木虫:)(金币+5):好久不见老兄了,欢迎常回来看看^_^ 2010-05-28 13:23:40
热氧化sio2比较稳定,其他通过H+离子钝化都不稳定,碘酒也是一样的只是通过I+离子钝化而已,只是看你是用做什么的,钝化后立马去测寿命就可以了。
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2楼
2010-05-27 10:27:03
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cqwssc
铜虫
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问题,为得到解决啊
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THESUNISFUTURE
3楼
2010-06-03 12:47:39
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Jerry7733
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专业: 无机材料化学
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
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楼主后来找到答案了吗 我目前也遇到和你一样的问 能否分享啊?
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最初的梦想
5楼
2013-05-05 14:40:42
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