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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 材料综合 » 材料物理 » 磁控溅射氧化镓
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kust cl

新虫 (初入文坛)

[求助] 磁控溅射氧化镓 已有1人参与

求助各位大神，做氧化镓薄膜一直镀不上去，溅射过程中有起辉现象，辉光是那种偏白的，功率在120w左右，工作气压2pa（调低后辉光会熄灭，已经是那种很慢的调了），衬底试过玻璃、硅、钛，氩气60氧气5，溅射时间2h。尝试过很多参数，镀完后肉眼观察不出来明显的膜层，然后也退火做过xrd，也是没有氧化镓的峰。准备做一次扫描看一看，有没有懂的大神知道哪出了问题

@hwweven 发自小木虫IOS客户端
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1楼 2024-09-13 17:54:46
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kust cl

新虫 (初入文坛)
打了mapping上面没有镓元素

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2楼2024-09-18 22:04:13
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Angel01

新虫 (著名写手)
我做氧化镓靶材

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3楼2024-09-22 07:53:47
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hubuhurui

新虫 (初入文坛)
参考一下文献的条件，再自己摸索一下条件应该就没问题了应该，我是用pld法生长，按照文章里的条件直接就能沉积出氧化镓薄膜。

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4楼2024-09-25 13:36:03
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小柯基？

新虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

我也是磁控溅射氧化镓的，但是你60/5的 氩氧比 是不是氧气太多了，试试氧分压少一点 会不会好一点，我渡完之后的  氧化镓 纯氩气环境溅射 在硅片上是紫色的。溅射气压大概在2mTorr。
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5楼2024-11-25 14:35:38
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