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448954538

新虫 (初入文坛)

[求助] 最近用射频溅射镀二氧化硅膜和铬膜,一直没溅射 已有2人参与

之前用射频溅射铜靶材镀铜膜镀膜效果还可以,最近用改成二氧化硅和铬靶材,一直没溅射是怎么回事呢,靶材是2英寸的,射频功率调的是100W,更换靶材匹配也调了反射功率不大,二氧化硅和铬就是溅射不出来   很郁闷  。。。 麻烦虫友分析下
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448954538

新虫 (初入文坛)

查了资料二氧化硅和铬的溅射率比铜确实低,但铬的减少率也有铜的一半左右,不至于一点都溅射不下来吧,有点不知所措了
2楼2018-06-19 12:43:35
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juhongbo

新虫 (著名写手)

3楼2018-06-19 13:03:52
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448954538

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
3楼: Originally posted by juhongbo at 2018-06-19 13:03:52
用的啥电源

电源是国产的13.56Mhz  200W的射频电源
4楼2018-06-19 15:43:43
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juhongbo

新虫 (著名写手)

5楼2018-06-19 15:59:07
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448954538

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
5楼: Originally posted by juhongbo at 2018-06-19 15:59:07
磁场是不是不行了

磁场不太清楚,换回铜靶材照样溅射,用二氧化硅和铬就不行,你指磁场问题是觉得溅射率太低了吗
6楼2018-06-19 16:08:09
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448954538

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
5楼: Originally posted by juhongbo at 2018-06-19 15:59:07
磁场是不是不行了

溅射铜可以很好的到电了,换铬靶材就基本没有沉积,相差太大了, 不知道是不是铬靶材有问题
7楼2018-06-19 16:10:31
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野人禾禾

金虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
所有射频不能启辉的工艺,你都可以从下面三个原因找到。
1. 电源。听你说国产的,基本上就已经是原因了;多关注反射功率,注意人身安全。
2. 腔体。这个还是和电源匹配箱有关,如果腔体阻抗超过匹配箱的调节范围,基本也是启辉困难。
3. 磁场。如果你的磁场不够,也会影响辉光强度。

建议,换进口电源,你也可以提高下气压试试。

» 本帖已获得的红花(最新10朵)

擅长薄膜材料工艺,欢迎交流captain0119
8楼2018-06-19 18:26:10
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448954538

新虫 (初入文坛)

送红花一朵
内容已删除
9楼2018-06-20 12:32:32
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sciencetechn

新虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

如果用射频溅射,应该不是靶材的问题,无论靶材是否导电均可溅射,很有可能是电源或者磁场的问题,试着排除一下
专业研发高纯磁控溅射靶材蒸发镀膜材料:15210523788(微信),北京金源新材
10楼2018-07-16 18:04:41
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