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北京石油化工学院2026年研究生招生接收调剂公告
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448954538

专家顾问

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[求助] 最近用射频溅射镀二氧化硅膜和铬膜,一直没溅射 已有2人参与

之前用射频溅射铜靶材镀铜膜镀膜效果还可以,最近用改成二氧化硅和铬靶材,一直没溅射是怎么回事呢,靶材是2英寸的,射频功率调的是100W,更换靶材匹配也调了反射功率不大,二氧化硅和铬就是溅射不出来   很郁闷  。。。 麻烦虫友分析下
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磁控溅射镀膜工艺

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野人禾禾

主管区长

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【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
所有射频不能启辉的工艺,你都可以从下面三个原因找到。
1. 电源。听你说国产的,基本上就已经是原因了;多关注反射功率,注意人身安全。
2. 腔体。这个还是和电源匹配箱有关,如果腔体阻抗超过匹配箱的调节范围,基本也是启辉困难。
3. 磁场。如果你的磁场不够,也会影响辉光强度。

建议,换进口电源,你也可以提高下气压试试。

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擅长薄膜材料工艺,欢迎交流captain0119
8楼2018-06-19 18:26:10
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448954538

实习版主

优秀!!有木有!!!优秀!!有木有!!!优秀!!有木有!!!优秀!!有木有!!!

查了资料二氧化硅和铬的溅射率比铜确实低,但铬的减少率也有铜的一半左右,不至于一点都溅射不下来吧,有点不知所措了
2楼2018-06-19 12:43:35
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juhongbo

主管区长

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3楼2018-06-19 13:03:52
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448954538

专家顾问

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引用回帖:
3楼: Originally posted by juhongbo at 2018-06-19 13:03:52
用的啥电源

电源是国产的13.56Mhz  200W的射频电源
4楼2018-06-19 15:43:43
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