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新虫 (初入文坛)

应助: 0 (幼儿园)
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[求助] 最近用射频溅射镀二氧化硅膜和铬膜，一直没溅射已有2人参与

之前用射频溅射铜靶材镀铜膜镀膜效果还可以，最近用改成二氧化硅和铬靶材，一直没溅射是怎么回事呢，靶材是2英寸的，射频功率调的是100W，更换靶材匹配也调了反射功率不大，二氧化硅和铬就是溅射不出来很郁闷。。。麻烦虫友分析下

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磁控溅射镀膜工艺

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1楼 2018-06-19 12:04:53

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野人禾禾

金虫 (正式写手)

应助: 62 (初中生)
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专业: 其他无机非金属材料

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1

所有射频不能启辉的工艺，你都可以从下面三个原因找到。
1. 电源。听你说国产的，基本上就已经是原因了；多关注反射功率，注意人身安全。
2. 腔体。这个还是和电源匹配箱有关，如果腔体阻抗超过匹配箱的调节范围，基本也是启辉困难。
3. 磁场。如果你的磁场不够，也会影响辉光强度。

建议，换进口电源，你也可以提高下气压试试。