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北京石油化工学院2026年研究生招生接收调剂公告
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448954538

新虫 (初入文坛)

[求助] 最近用射频溅射镀二氧化硅膜和铬膜，一直没溅射 已有2人参与

之前用射频溅射铜靶材镀铜膜镀膜效果还可以，最近用改成二氧化硅和铬靶材，一直没溅射是怎么回事呢，靶材是2英寸的，射频功率调的是100W，更换靶材匹配也调了反射功率不大，二氧化硅和铬就是溅射不出来   很郁闷  。。。 麻烦虫友分析下
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磁控溅射镀膜工艺

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1楼 2018-06-19 12:04:53
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448954538

新虫 (初入文坛)
查了资料二氧化硅和铬的溅射率比铜确实低，但铬的减少率也有铜的一半左右，不至于一点都溅射不下来吧，有点不知所措了
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2楼2018-06-19 12:43:35
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juhongbo

新虫 (著名写手)
用的啥电源

发自小木虫Android客户端
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3楼2018-06-19 13:03:52
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448954538

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
3楼: Originally posted by juhongbo at 2018-06-19 13:03:52
用的啥电源

电源是国产的13.56Mhz  200W的射频电源
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4楼2018-06-19 15:43:43
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juhongbo

新虫 (著名写手)
磁场是不是不行了

发自小木虫Android客户端
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5楼2018-06-19 15:59:07
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448954538

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
5楼: Originally posted by juhongbo at 2018-06-19 15:59:07
磁场是不是不行了

磁场不太清楚，换回铜靶材照样溅射，用二氧化硅和铬就不行，你指磁场问题是觉得溅射率太低了吗
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6楼2018-06-19 16:08:09
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448954538

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
5楼: Originally posted by juhongbo at 2018-06-19 15:59:07
磁场是不是不行了

溅射铜可以很好的到电了，换铬靶材就基本没有沉积，相差太大了， 不知道是不是铬靶材有问题
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7楼2018-06-19 16:10:31
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野人禾禾

金虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
所有射频不能启辉的工艺，你都可以从下面三个原因找到。
1. 电源。听你说国产的，基本上就已经是原因了；多关注反射功率，注意人身安全。
2. 腔体。这个还是和电源匹配箱有关，如果腔体阻抗超过匹配箱的调节范围，基本也是启辉困难。
3. 磁场。如果你的磁场不够，也会影响辉光强度。

建议，换进口电源，你也可以提高下气压试试。
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448954538
擅长薄膜材料工艺，欢迎交流captain0119
8楼2018-06-19 18:26:10
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448954538

新虫 (初入文坛)
送红花一朵
内容已删除
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9楼2018-06-20 12:32:32
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sciencetechn

新虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

如果用射频溅射，应该不是靶材的问题，无论靶材是否导电均可溅射，很有可能是电源或者磁场的问题，试着排除一下
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专业研发高纯磁控溅射靶材蒸发镀膜材料：15210523788（微信），北京金源新材
10楼2018-07-16 18:04:41
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