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448954538

新虫 (初入文坛)

[求助] 最近用射频溅射镀二氧化硅膜和铬膜，一直没溅射 已有2人参与

之前用射频溅射铜靶材镀铜膜镀膜效果还可以，最近用改成二氧化硅和铬靶材，一直没溅射是怎么回事呢，靶材是2英寸的，射频功率调的是100W，更换靶材匹配也调了反射功率不大，二氧化硅和铬就是溅射不出来   很郁闷  。。。 麻烦虫友分析下
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磁控溅射镀膜工艺

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1楼 2018-06-19 12:04:53
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448954538

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
5楼: Originally posted by juhongbo at 2018-06-19 15:59:07
磁场是不是不行了

溅射铜可以很好的到电了，换铬靶材就基本没有沉积，相差太大了， 不知道是不是铬靶材有问题
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7楼2018-06-19 16:10:31
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448954538

新虫 (初入文坛)
查了资料二氧化硅和铬的溅射率比铜确实低，但铬的减少率也有铜的一半左右，不至于一点都溅射不下来吧，有点不知所措了
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2楼2018-06-19 12:43:35
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juhongbo

新虫 (著名写手)
用的啥电源

发自小木虫Android客户端
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3楼2018-06-19 13:03:52
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448954538

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
3楼: Originally posted by juhongbo at 2018-06-19 13:03:52
用的啥电源

电源是国产的13.56Mhz  200W的射频电源
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4楼2018-06-19 15:43:43
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