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磁控溅射设备
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杰杰1992
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磁控溅射设备
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通过溅射氧化物(氧气和氩气),以前可以达到1pa不灭辉,但是现在同等条件下,只能在4pa保持起辉状态,在溅射氮化物(氮气和氩气),基本上都很正常,哪位大牛也遇见过这种情况,最后是怎么解决的?
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磁控溅射镀膜工艺
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1楼
2018-01-21 14:06:58
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楼主说的情况很常见 靶材不同 设备状态不同 甚至是季节不同 起辉压强都会有变化的 楼主不必太在意
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2楼
2018-01-22 07:26:40
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野人禾禾
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2018-01-31 16:27:56
4pa是蛮高,很怀疑你的阴极磁场已经退化了,如果可能你可以用高斯计测一下靶材表面磁场。
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擅长薄膜材料工艺,欢迎交流captain0119
3楼
2018-01-22 09:45:50
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tnnd88
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2018-01-31 16:22:53
看来你是用金属靶制备金属氧化物,这个工艺最讨厌的地方在于金属氧化物多半具有同素异构体,在不同温度和压力范围会呈现不同的性能,有时绝缘,有时会变成半导体,正是这个半导体结构会影响机器某些部位的绝缘到造成短路。但是这个里面的东西太复杂,我也说不清具体是哪一种造成的。
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他奶奶的88
4楼
2018-01-22 15:40:51
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杰杰1992
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:
Originally posted by
野人禾禾
at 2018-01-22 09:45:50
4pa是蛮高,很怀疑你的阴极磁场已经退化了,如果可能你可以用高斯计测一下靶材表面磁场。
我试试,谢谢
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5楼
2018-01-31 16:23:54
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杰杰1992
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:
Originally posted by
杰杰1992
at 2018-01-31 16:23:54
我试试,谢谢
...
通常阴极靶位的磁场强度在多少为正常值?
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6楼
2018-01-31 16:24:55
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野人禾禾
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6楼
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Originally posted by
杰杰1992
at 2018-01-31 09:24:55
通常阴极靶位的磁场强度在多少为正常值?
...
安装好靶,靶表面磁场水平分量正常在350~650Gs都应该算正常;如果低于300Gs就有点低了,启辉就比较难需要升高气压。
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擅长薄膜材料工艺,欢迎交流captain0119
7楼
2018-01-31 16:40:37
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