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杰杰1992

新虫 (初入文坛)

[求助] 磁控溅射设备 已有2人参与

通过溅射氧化物(氧气和氩气)，以前可以达到1pa不灭辉，但是现在同等条件下，只能在4pa保持起辉状态，在溅射氮化物(氮气和氩气)，基本上都很正常，哪位大牛也遇见过这种情况，最后是怎么解决的？

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磁控溅射镀膜工艺

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1楼 2018-01-21 14:06:58
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tnnd88

铜虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
杰杰1992: 金币+5, ★★★很有帮助 2018-01-31 16:22:53
看来你是用金属靶制备金属氧化物，这个工艺最讨厌的地方在于金属氧化物多半具有同素异构体，在不同温度和压力范围会呈现不同的性能，有时绝缘，有时会变成半导体，正是这个半导体结构会影响机器某些部位的绝缘到造成短路。但是这个里面的东西太复杂，我也说不清具体是哪一种造成的。
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他奶奶的88
4楼2018-01-22 15:40:51
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Friend007

银虫 (知名作家)
楼主说的情况很常见 靶材不同 设备状态不同 甚至是季节不同 起辉压强都会有变化的 楼主不必太在意

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2楼2018-01-22 07:26:40
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野人禾禾

金虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
杰杰1992: 金币+8, ★★★很有帮助 2018-01-31 16:27:56
4pa是蛮高，很怀疑你的阴极磁场已经退化了，如果可能你可以用高斯计测一下靶材表面磁场。
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擅长薄膜材料工艺，欢迎交流captain0119
3楼2018-01-22 09:45:50
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杰杰1992

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
3楼: Originally posted by 野人禾禾 at 2018-01-22 09:45:50
4pa是蛮高，很怀疑你的阴极磁场已经退化了，如果可能你可以用高斯计测一下靶材表面磁场。

我试试，谢谢

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5楼2018-01-31 16:23:54
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