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本人在磁控溅射上镀ZnS，射频，不能起辉。用砂纸轻轻打磨靶材表面，还是不起辉？ 已有3人参与
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| 本人在磁控溅射上镀ZnS，射频，上次能起辉，这次不能起辉。去除，用砂纸轻轻打磨表面，还是不起辉？ |
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 薄膜制备与特性 | 磁控溅射镀膜工艺 |
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【答案】应助回帖
★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
1351459515(20091783代发): 金币+3 2018-04-26 21:35:35
感谢参与，应助指数 +1
1351459515(20091783代发): 金币+3 2018-04-26 21:35:35
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ZnS没有溅射过，但是溅射过CdS 值得注意的是硫化物靶材和氧化物靶材有很大的不同。 硫化物的致密度以及结晶性都不高，而氧化物可以类似陶瓷。这方面的区别会导致离子轰击过程中会产生离子注入的情况，也就是有效撞击并不多，二次电子不多，所以辉光很容易不够亮。（建议采用下述3） 1. 上次射频溅射的参数有没有，功率和自偏压，以及气压和何种气源； 2. ZnS靶材，采用射频溅射一般不存在靶材中毒的情况（排除）；但是表面成分可能会随着溅射发生变化，所以打磨也是对的。 3. 怀疑上次溅射的条件比较极限，你可以尝试将气压提高到1~2pa，先启辉预溅射3分钟，然后再将气压降低到你所需要的值。随时关注辉光变化。当辉光暗到一定程度就不能维持了。 以上。 |
3楼2018-01-02 10:04:45
peterflyer 
木虫之王 (文学泰斗)
peterflyer
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【答案】应助回帖
★
感谢参与，应助指数 +1
1351459515(20091783代发): 金币+1 2018-04-26 21:35:29
感谢参与，应助指数 +1
1351459515(20091783代发): 金币+1 2018-04-26 21:35:29
| 这似乎是靶材发生中毒了吧。看看这个链接有无参考价值：https://wenku.baidu.com/view/2e8bbc2e7e21af45b207a816.html。 |
2楼2018-01-02 09:03:31
pvdmaterial
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4楼2018-01-05 10:56:01
