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yangyu1995

银虫 (初入文坛)

[交流] 磁控溅射问题 已有5人参与

用反应磁控溅射镀氧化物薄膜,一个多,两个小时之后辉光颜色会变,这是怎么回事呀?设定参数并没有变化

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yangyu1995

银虫 (初入文坛)

引用回帖:
4楼: Originally posted by lywzd16 at 2017-11-08 00:03:31
靶料就是氧化物的还是单质的?

靶材是氧化物和金属的混合靶材

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5楼2017-11-08 08:22:23
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cj1067

新虫 (小有名气)


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在磁控溅射里面存在一个现象叫靶中毒,指的是在靶材表面形成了致密氧化层。这时辉光一般是减弱,或者略微变色。表现为沉积速率降低,沉积薄膜中组元成分发生变化。

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6楼2017-11-08 14:00:57
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snwoody

金虫 (小有名气)


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你是反应磁控溅射吧,通入反应气体了,一般是氧气吧。沉积时间长了,靶材表面会形成氧化层,表面组分发生变化了,溅射上去的材料原子比也会发生变化,辉光因此也发生变化。第一,做反应溅射要尽可能缩短溅射时间。第二,正式溅射沉积之前或者之后,一定要洗靶(一般也叫预溅射),在不通入反应气体,只通入溅射气体氩气的情况下,充分洗靶,把表面的氧化层溅射掉,再开始正式溅射。
10楼2017-11-09 15:28:08
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清风展望

木虫 (职业作家)

时间不能太久吧,可以提高镀膜速率,快点镀完

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2楼2017-11-07 23:31:42
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yangyu1995

银虫 (初入文坛)

引用回帖:
2楼: Originally posted by 清风展望 at 2017-11-07 23:31:42
时间不能太久吧,可以提高镀膜速率,快点镀完

是因为时间太长的原因么?之前两个小时都没出现这个情况。

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3楼2017-11-07 23:55:48
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lywzd16

铁杆木虫 (著名写手)


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靶料就是氧化物的还是单质的?

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4楼2017-11-08 00:03:31
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yangyu1995

银虫 (初入文坛)

引用回帖:
6楼: Originally posted by cj1067 at 2017-11-08 14:00:57
在磁控溅射里面存在一个现象叫靶中毒,指的是在靶材表面形成了致密氧化层。这时辉光一般是减弱,或者略微变色。表现为沉积速率降低,沉积薄膜中组元成分发生变化。

但是之前溅射工艺参数全部一样,没有出现这个现象

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7楼2017-11-08 18:47:08
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cj1067

新虫 (小有名气)


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引用回帖:
7楼: Originally posted by yangyu1995 at 2017-11-08 18:47:08
但是之前溅射工艺参数全部一样,没有出现这个现象
...

这个我就不确定了,你可以不用打磨直接再生长看看是不是还是这样,如果是就说明表面确实有东西了,靶中毒。如果没有的话说明设备哪里出了点小问题或者说实验过程中随机出现的小毛病。不管怎么样都建议把靶表面打磨一下。

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8楼2017-11-08 19:28:32
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pvdmaterial

新虫 (小有名气)


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打磨下表面你再试试下
9楼2017-11-09 14:13:23
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