[求助] 请问SEM测试的结果该如何解释？？？ 已有1人参与

求大神指点！！！ 如图：材料本身是SiC上磁控溅射的金属，一共三层，第一层是Ti(100nm, 熔点1668℃)，第二层是TaSi2(300nm,熔点2200℃),最顶层是Pt(200nm,熔点1768℃)。 磁控溅射完后表面SEM照片如“as-deposited.png”所示，看起来比较平整。 经过1000℃/3min的退火后表面情况如“annealed.png”所示，表面呈微米级的交错的棍棒状，还有纳米级的金属颗粒。受限于设备分辨率，照片不够清晰。 想问退火后的表面形成的原因，最好能推荐几篇类似的论文做理论支撑。 谢谢！ annealed.png as-deposited.png@comma@wacky1980

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