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guotao019新虫 (著名写手)
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请问SEM测试的结果该如何解释？？？已有1人参与
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求大神指点！！！ 如图：材料本身是SiC上磁控溅射的金属，一共三层，第一层是Ti(100nm, 熔点1668℃)，第二层是TaSi2(300nm,熔点2200℃),最顶层是Pt(200nm,熔点1768℃)。 磁控溅射完后表面SEM照片如“as-deposited.png”所示，看起来比较平整。 经过1000℃/3min的退火后表面情况如“annealed.png”所示，表面呈微米级的交错的棍棒状，还有纳米级的金属颗粒。受限于设备分辨率，照片不够清晰。 想问退火后的表面形成的原因，最好能推荐几篇类似的论文做理论支撑。 谢谢！  annealed.png  as-deposited.png@comma@wacky1980 |
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成像原理如四楼所说，同一区域即使用BSE和SEI获得照片应该大致一样，BSE衬度明显，所以你这个应该是热处理过程中有氧化或者反应生成了新得组织！可以扫下XRD和EDX之类的 发自小木虫IOS客户端 |
10楼2016-08-03 05:30:34