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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 功能薄膜 » 溅射氧化铬的薄膜，XRD测试是非晶，好难过，请问怎么使得溅射上去的直接是晶体。
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chennn

木虫 (小有名气)
氧气氛下退个火就行了

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11楼2016-04-11 19:22:12
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芝麻大迪

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
11楼: Originally posted by chennn at 2016-04-11 19:22:12
氧气氛下退个火就行了

好，我明天试试，其他条件不变吗？
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12楼2016-04-11 20:13:24
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杨建军205

银虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
引用回帖:
10楼: Originally posted by 芝麻大迪 at 2016-04-11 18:37:18
是纯Cr金属靶，利用反应溅射。基底温度提上去了，今天测出来还是非晶。。。。。不知道怎么办了。...

小伙子，1.首先功率太小了，一般情况下，功率不上百，溅射速率会很小，很长时间沉积的薄膜也很薄，所以XRD根本测不出来，非晶很正常，很大可能性就是没有膜，而XRD显示的是玻璃基体的衍射谱线，当然是非晶了。不信你可以不用玻璃做基体，而改用铁或者硅基片，我想你做出来的XRD会显示出很好的基体的谱线。
2.所以现在不是结晶的问题，也不是温度的问题，而是沉积速率的问题。你首先得确定一定厚度的膜层沉积上去了，才能做XRD。
3.要有膜沉积上去，一个是提高溅射功率，一个是延长沉积时间，可能同时还得控制真空度，降低氧气的流量，否则靶材表面都氧化了，从金属态溅射模式转变为非金属态转变模式了，溅射速率会呈现指数量级的下降，25分钟，几十瓦会有膜沉积上去才怪了。
4.要观察辉光的颜色，用最小的氧气量，才会得到最快的溅射速率，但是氧气少了可能就不是氧化铬了，而是金属铬，这个平衡点得找到。
所以，加大功率，延长时间，降低氧气流量，调节真空度，首先保证有一定厚度的膜。然后再提高温度改善结晶度，看能否得到晶粒尺寸较大的薄膜，才会有XRD衍射峰。
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13楼2016-04-11 21:24:17
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芝麻大迪

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
13楼: Originally posted by 杨建军205 at 2016-04-11 21:24:17
小伙子，1.首先功率太小了，一般情况下，功率不上百，溅射速率会很小，很长时间沉积的薄膜也很薄，所以XRD根本测不出来，非晶很正常，很大可能性就是没有膜，而XRD显示的是玻璃基体的衍射谱线，当然是非晶了。不信 ...

haha谢谢这位热心肠的大哥哥，我是女生，看了你的回复对我帮助很大，我现在只有一个疑虑，就是不知道那个Cr靶材表面有没有被氧化……前天在玻璃基底上做了两个，条件是25w1h500°C氩氧比20：4和20：6，看样子功率确实太小，博一的师哥曾经做过氧化亚铜，最佳功率是七点几瓦，然后我看过其他的文献，上面的功率最大也是60w，Cr那一族元素的氧化物做RF的居多，也不知道RF除了功率之外的各项条件对于DC来说适不适用。。。
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14楼2016-04-11 21:47:16
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whut_cxb

铁杆木虫 (著名写手)
退火试试

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15楼2016-04-11 22:01:11
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芝麻大迪

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
15楼: Originally posted by whut_cxb at 2016-04-11 22:01:11
退火试试

原位退火？还是把已经溅射完成的样品直接拿去退火呢？
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16楼2016-04-11 22:03:08
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whut_cxb

铁杆木虫 (著名写手)
我们以前做其他氧化物陶瓷膜的时候，也是这种现象，再放到炉子退火就可以了，不是原位

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17楼2016-04-12 09:28:49
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学渣求上进

新虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

我觉地你应该先把功率加大，个人认为功率对薄膜的结晶性影响比较大。我用金属Y靶，也是直流溅射。测完发现功率在80W时都没有结晶，到90W才开始有一点衍射峰，你可以试试
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18楼2016-04-19 16:41:39
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