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溅射氧化铬的薄膜，XRD测试是非晶，好难过，请问怎么使得溅射上去的直接是晶体。 已有4人参与
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最近做磁控，我用的是直流。条件：功率25w，氩氧比9：1 ，9：3 ，9：4 ，9：6 溅射时间是二十分钟，基底温度是三百度。在玻璃基底溅射的，昨天测XRD全部显示为非晶，查阅关于氧化铬薄膜的相关文献，发现做RF的比较多，RF的各项条件对于DF不适应吧我想，所以我现在也很愁，不知道条件怎么改，我才十九岁，各位哥哥姐姐学到的知识比我丰富太多，希望大家帮帮我。呜呜呜 |
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【答案】应助回帖
感谢参与，应助指数 +1
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小伙子，1.首先功率太小了，一般情况下，功率不上百，溅射速率会很小，很长时间沉积的薄膜也很薄，所以XRD根本测不出来，非晶很正常，很大可能性就是没有膜，而XRD显示的是玻璃基体的衍射谱线，当然是非晶了。不信你可以不用玻璃做基体，而改用铁或者硅基片，我想你做出来的XRD会显示出很好的基体的谱线。 2.所以现在不是结晶的问题，也不是温度的问题，而是沉积速率的问题。你首先得确定一定厚度的膜层沉积上去了，才能做XRD。 3.要有膜沉积上去，一个是提高溅射功率，一个是延长沉积时间，可能同时还得控制真空度，降低氧气的流量，否则靶材表面都氧化了，从金属态溅射模式转变为非金属态转变模式了，溅射速率会呈现指数量级的下降，25分钟，几十瓦会有膜沉积上去才怪了。 4.要观察辉光的颜色，用最小的氧气量，才会得到最快的溅射速率，但是氧气少了可能就不是氧化铬了，而是金属铬，这个平衡点得找到。 所以，加大功率，延长时间，降低氧气流量，调节真空度，首先保证有一定厚度的膜。然后再提高温度改善结晶度，看能否得到晶粒尺寸较大的薄膜，才会有XRD衍射峰。 |
13楼2016-04-11 21:24:17
qlihustmsti
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3楼2016-04-09 16:52:49
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5楼2016-04-10 08:01:56
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