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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 功能薄膜 » 溅射氧化铬的薄膜，XRD测试是非晶，好难过，请问怎么使得溅射上去的直接是晶体。
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芝麻大迪

新虫 (初入文坛)

[求助] 溅射氧化铬的薄膜，XRD测试是非晶，好难过，请问怎么使得溅射上去的直接是晶体。 已有4人参与

最近做磁控，我用的是直流。条件：功率25w，氩氧比9：1 ，9：3 ，9：4 ，9：6  溅射时间是二十分钟，基底温度是三百度。在玻璃基底溅射的，昨天测XRD全部显示为非晶，查阅关于氧化铬薄膜的相关文献，发现做RF的比较多，RF的各项条件对于DF不适应吧我想，所以我现在也很愁，不知道条件怎么改，我才十九岁，各位哥哥姐姐学到的知识比我丰富太多，希望大家帮帮我。呜呜呜
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薄膜材料和器件制备

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1楼 2016-04-09 09:52:02
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芝麻大迪

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
9楼: Originally posted by zss2015 at 2016-04-11 17:18:27
如果是陶瓷靶的话，建议用RF，用CD做陶瓷靶溅射效果很差，而且有可能把靶材击穿

是纯Cr金属靶，利用反应溅射。基底温度提上去了，今天测出来还是非晶。。。。。不知道怎么办了。
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10楼2016-04-11 18:37:18
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qlihustmsti

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
温度再改一下
确认一下你的薄膜厚度，可能很薄同时结晶很差，都检测不出XRD峰
还有貌似功率有点小，改成100W左右吧
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3楼2016-04-09 16:52:49
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芝麻大迪

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
3楼: Originally posted by qlihustmsti at 2016-04-09 16:52:49
温度再改一下
确认一下你的薄膜厚度，可能很薄同时结晶很差，都检测不出XRD峰
还有貌似功率有点小，改成100W左右吧

嗯呐，今天把基底温度提升到500°C了，功率后期会调大，做完不同氩氧比的样品后我再测测XRD。谢谢你啦。
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4楼2016-04-09 21:39:35
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芝麻大迪

新虫 (初入文坛)
不要沉，怎么又沉了
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5楼2016-04-10 08:01:56
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