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溅射氧化铬的薄膜，XRD测试是非晶，好难过，请问怎么使得溅射上去的直接是晶体。已有4人参与
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最近做磁控，我用的是直流。条件：功率25w，氩氧比9：1 ，9：3 ，9：4 ，9：6 溅射时间是二十分钟，基底温度是三百度。在玻璃基底溅射的，昨天测XRD全部显示为非晶，查阅关于氧化铬薄膜的相关文献，发现做RF的比较多，RF的各项条件对于DF不适应吧我想，所以我现在也很愁，不知道条件怎么改，我才十九岁，各位哥哥姐姐学到的知识比我丰富太多，希望大家帮帮我。呜呜呜 |
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 薄膜材料和器件制备 |
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