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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 功能薄膜 » 溅射氧化铬的薄膜，XRD测试是非晶，好难过，请问怎么使得溅射上去的直接是晶体。
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芝麻大迪

新虫 (初入文坛)

[求助] 溅射氧化铬的薄膜，XRD测试是非晶，好难过，请问怎么使得溅射上去的直接是晶体。 已有4人参与

最近做磁控，我用的是直流。条件：功率25w，氩氧比9：1 ，9：3 ，9：4 ，9：6  溅射时间是二十分钟，基底温度是三百度。在玻璃基底溅射的，昨天测XRD全部显示为非晶，查阅关于氧化铬薄膜的相关文献，发现做RF的比较多，RF的各项条件对于DF不适应吧我想，所以我现在也很愁，不知道条件怎么改，我才十九岁，各位哥哥姐姐学到的知识比我丰富太多，希望大家帮帮我。呜呜呜
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1楼 2016-04-09 09:52:02
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芝麻大迪

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
13楼: Originally posted by 杨建军205 at 2016-04-11 21:24:17
小伙子，1.首先功率太小了，一般情况下，功率不上百，溅射速率会很小，很长时间沉积的薄膜也很薄，所以XRD根本测不出来，非晶很正常，很大可能性就是没有膜，而XRD显示的是玻璃基体的衍射谱线，当然是非晶了。不信 ...

haha谢谢这位热心肠的大哥哥，我是女生，看了你的回复对我帮助很大，我现在只有一个疑虑，就是不知道那个Cr靶材表面有没有被氧化……前天在玻璃基底上做了两个，条件是25w1h500°C氩氧比20：4和20：6，看样子功率确实太小，博一的师哥曾经做过氧化亚铜，最佳功率是七点几瓦，然后我看过其他的文献，上面的功率最大也是60w，Cr那一族元素的氧化物做RF的居多，也不知道RF除了功率之外的各项条件对于DC来说适不适用。。。
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14楼2016-04-11 21:47:16
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qlihustmsti

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
温度再改一下
确认一下你的薄膜厚度，可能很薄同时结晶很差，都检测不出XRD峰
还有貌似功率有点小，改成100W左右吧
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3楼2016-04-09 16:52:49
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芝麻大迪

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
3楼: Originally posted by qlihustmsti at 2016-04-09 16:52:49
温度再改一下
确认一下你的薄膜厚度，可能很薄同时结晶很差，都检测不出XRD峰
还有貌似功率有点小，改成100W左右吧

嗯呐，今天把基底温度提升到500°C了，功率后期会调大，做完不同氩氧比的样品后我再测测XRD。谢谢你啦。
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4楼2016-04-09 21:39:35
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芝麻大迪

新虫 (初入文坛)
不要沉，怎么又沉了
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5楼2016-04-10 08:01:56
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