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溅射氧化铬的薄膜,XRD测试是非晶,好难过,请问怎么使得溅射上去的直接是晶体。 已有4人参与
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最近做磁控,我用的是直流。条件:功率25w,氩氧比9:1 ,9:3 ,9:4 ,9:6 溅射时间是二十分钟,基底温度是三百度。在玻璃基底溅射的,昨天测XRD全部显示为非晶,查阅关于氧化铬薄膜的相关文献,发现做RF的比较多,RF的各项条件对于DF不适应吧我想,所以我现在也很愁,不知道条件怎么改,我才十九岁,各位哥哥姐姐学到的知识比我丰富太多,希望大家帮帮我。呜呜呜 |
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12楼2016-04-11 20:13:24
qlihustmsti
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3楼2016-04-09 16:52:49
4楼2016-04-09 21:39:35
5楼2016-04-10 08:01:56













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