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芝麻大迪

新虫 (初入文坛)

[求助] 溅射氧化铬的薄膜,XRD测试是非晶,好难过,请问怎么使得溅射上去的直接是晶体。 已有4人参与

最近做磁控,我用的是直流。条件:功率25w,氩氧比9:1 ,9:3 ,9:4 ,9:6  溅射时间是二十分钟,基底温度是三百度。在玻璃基底溅射的,昨天测XRD全部显示为非晶,查阅关于氧化铬薄膜的相关文献,发现做RF的比较多,RF的各项条件对于DF不适应吧我想,所以我现在也很愁,不知道条件怎么改,我才十九岁,各位哥哥姐姐学到的知识比我丰富太多,希望大家帮帮我。呜呜呜
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芝麻大迪

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
11楼: Originally posted by chennn at 2016-04-11 19:22:12
氧气氛下退个火就行了

好,我明天试试,其他条件不变吗?
12楼2016-04-11 20:13:24
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qlihustmsti

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
温度再改一下
确认一下你的薄膜厚度,可能很薄同时结晶很差,都检测不出XRD峰
还有貌似功率有点小,改成100W左右吧
交流一下
3楼2016-04-09 16:52:49
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芝麻大迪

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
3楼: Originally posted by qlihustmsti at 2016-04-09 16:52:49
温度再改一下
确认一下你的薄膜厚度,可能很薄同时结晶很差,都检测不出XRD峰
还有貌似功率有点小,改成100W左右吧

嗯呐,今天把基底温度提升到500°C了,功率后期会调大,做完不同氩氧比的样品后我再测测XRD。谢谢你啦。
4楼2016-04-09 21:39:35
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芝麻大迪

新虫 (初入文坛)

不要沉,怎么又沉了
5楼2016-04-10 08:01:56
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