| 查看: 2658 | 回复: 51 | ||||
| 当前只显示满足指定条件的回帖，点击这里查看本话题的所有回帖 | ||||
[求助]
磁控溅射时加负偏压对薄膜结晶度的影响 已有2人参与
|
||||
|
本菇凉使用CZTS靶材磁控溅射CZTS时，发现溅射后的CZTS薄膜结晶度很差，晶粒度特别小，老板让我下次溅射的时候加上一定的负偏压试试，不知道这个负偏压对溅射过程有哪些影响，能不能提高溅射薄膜的结晶度，多谢各位大侠啦~ 大恩不言谢，小女子直接   薄膜表面形貌.jpg |
回复此楼» 收录本帖的淘帖专辑推荐
 薄膜制备与特性 | 薄膜材料和器件制备 |
» 猜你喜欢
请问对标matlab的开源软件octave的网站https://octave.org为什么打不开？
已经有1人回复
-
求助两种BiOBr晶体的CIF文件（卡片号为JCPDS 09-0393与JCPDS 01-1004 ）
已经有0人回复
-
无机化学论文润色/翻译怎么收费?
已经有83人回复
-
哈尔滨工程大学材化学院国家级青年人才-26年硕士招生
已经有0人回复
-
求助Fe-TCPP、Zn-TCPP的CIF文件，或者CCDC号
已经有0人回复
3楼2016-03-25 22:50:47
4楼2016-03-26 09:34:49
5楼2016-03-26 14:38:37
7楼2016-03-26 21:26:52
10楼2016-03-27 08:24:21
12楼2016-03-29 10:19:22
 |
13楼2016-03-29 18:05:11
16楼2016-03-29 19:52:00
17楼2016-03-30 09:53:05