[求助] 磁控溅射时加负偏压对薄膜结晶度的影响 已有2人参与

本菇凉使用CZTS靶材磁控溅射CZTS时，发现溅射后的CZTS薄膜结晶度很差，晶粒度特别小，老板让我下次溅射的时候加上一定的负偏压试试，不知道这个负偏压对溅射过程有哪些影响，能不能提高溅射薄膜的结晶度，多谢各位大侠啦~ 大恩不言谢，小女子直接 薄膜表面形貌.jpg

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薄膜制备与特性

薄膜材料和器件制备

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