| 查看: 2658 | 回复: 51 | ||
| 当前只显示满足指定条件的回帖，点击这里查看本话题的所有回帖 | ||
[求助]
磁控溅射时加负偏压对薄膜结晶度的影响 已有2人参与
|
||
|
本菇凉使用CZTS靶材磁控溅射CZTS时，发现溅射后的CZTS薄膜结晶度很差，晶粒度特别小，老板让我下次溅射的时候加上一定的负偏压试试，不知道这个负偏压对溅射过程有哪些影响，能不能提高溅射薄膜的结晶度，多谢各位大侠啦~ 大恩不言谢，小女子直接   薄膜表面形貌.jpg |
回复此楼» 猜你喜欢
请问对标matlab的开源软件octave的网站https://octave.org为什么打不开？
已经有1人回复
-
求助两种BiOBr晶体的CIF文件（卡片号为JCPDS 09-0393与JCPDS 01-1004 ）
已经有0人回复
-
金属材料论文润色/翻译怎么收费?
已经有227人回复
-
哈尔滨工程大学材化学院国家级青年人才-26年硕士招生
已经有0人回复
-
求助Fe-TCPP、Zn-TCPP的CIF文件，或者CCDC号
已经有0人回复
17楼2016-03-30 09:53:05
chenjin
铁杆木虫 (著名写手)
- 应助: 3 (幼儿园)
- 金币: 5146.8
- 散金: 133
- 红花: 6
- 帖子: 2033
- 在线: 450.7小时
- 虫号: 102844
- 注册: 2005-11-14
- 专业: 凝聚态物性 II ：电子结构
2楼2016-03-25 21:44:27
3楼2016-03-25 22:50:47
4楼2016-03-26 09:34:49