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yangyueyf

银虫 (正式写手)

[求助] 磁控溅射时加负偏压对薄膜结晶度的影响 已有2人参与

本菇凉使用CZTS靶材磁控溅射CZTS时,发现溅射后的CZTS薄膜结晶度很差,晶粒度特别小,老板让我下次溅射的时候加上一定的负偏压试试,不知道这个负偏压对溅射过程有哪些影响,能不能提高溅射薄膜的结晶度,多谢各位大侠啦~
大恩不言谢,小女子直接

磁控溅射时加负偏压对薄膜结晶度的影响
薄膜表面形貌.jpg
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PVD ALD CVD
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dorrnm

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
负偏压能增加溅射产额,提高沉积速率。结晶度主要和退火过程有关

发自小木虫Android客户端
6楼2016-03-26 16:42:13
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chenjin

铁杆木虫 (著名写手)

2楼2016-03-25 21:44:27
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yangyueyf

银虫 (正式写手)

引用回帖:
2楼: Originally posted by chenjin at 2016-03-25 21:44:27
基底加热会不会好一些。

基底加热对成分影响比较大,首先考虑负偏压

发自小木虫Android客户端
PVD ALD CVD
3楼2016-03-25 22:50:47
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yangyueyf

银虫 (正式写手)

各位大侠有没有知道的啊
PVD ALD CVD
4楼2016-03-26 09:34:49
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