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mrfunny

银虫 (小有名气)

[求助] 磁控离子溅射二氧化硅膜 已有4人参与

想咨询下,利用磁控离子溅射二氧化硅膜,可以直接拿二氧化硅来做靶材镀膜吗?有没有大神这样做过,如果可以应该注意些什么呀?谢谢了!
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perry_ping

新虫 (职业作家)


【答案】应助回帖

★
mrfunny(明亮的眼眸代发): 金币+1, 感谢交流~~~欢迎常来工艺技术版~O(∩_∩)O 2016-03-24 22:52:27
直接热氧化不是挺好的

[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
4楼2016-01-25 20:18:48
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rikasu

新虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

★ ★ ★
感谢参与,应助指数 +1
mrfunny(明亮的眼眸代发): 金币+3, 感谢交流~~~欢迎常来工艺技术版~O(∩_∩)O 2015-12-26 23:05:48
可以的,二氧化硅靶材是陶瓷靶材,我们这边买的时候绑了块铜板,注意功率和温度。忘记我师兄在中诺新材买的还是研诺信诚买的了。
我就是我,颜色不一样的烟火
2楼2015-12-25 16:44:17
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lisx2525

新虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

★ ★
明亮的眼眸: 金币+2, 感谢应助回帖,常来工艺技术版! 2016-01-25 20:50:30
如果是研发型的设备 你直接用SiO2 靶材做 SiO2, 射频溅射, 补一些氧气 ,镀膜过程中如果可以加一些温度最好
如果是生产型设备Si +O2 = SiOx, 中频溅射的多, 在加上个反应溅射控制系统,镀膜速率更快 。

研发型的SiO2 靶材不是很贵,可以不邦定(邦定价格太贵)。 功率加的小一点接口,防止靶材镀膜过程中裂掉。 或多买几块、
3楼2016-01-21 13:34:58
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wtm_AE

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★
mrfunny(明亮的眼眸代发): 金币+1, 感谢交流~~~欢迎常来工艺技术版~O(∩_∩)O 2016-03-24 22:52:41
二氧化硅靶材,通过电源离化后,直接沉积在基材上面,
QQ:1723046531
5楼2016-03-24 11:38:46
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