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光刻涂胶机抽真空原理
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光刻涂胶机抽真空原理
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如题,涂胶机托盘和硅基间的真空是如何保障两者不接触的?可否用力学解释下?
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谁告诉你说匀胶的chuck和wafer不接触的????
被骗了吧
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2015-12-14 19:08:32
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2楼
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Originally posted by
yswyx
at 2015-12-14 19:08:32
谁告诉你说匀胶的chuck和wafer不接触的????
被骗了吧
您能仔细说一下么?chuck和wafer之间在涂胶的过程中不是有个真空层么?能介绍下么?
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3楼
2015-12-17 11:20:57
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克努特(明亮的眼眸代发): 金币+5, 感谢交流~~~欢迎常来工艺技术版~O(∩_∩)O
2015-12-17 22:19:40
chuck起到的作用就是把真空引到wafer的背面,同时起到密闭真空的作用。也就是说,chuck和wafer的背面形成了一个密闭的真空空间。既然是密闭的,那么chuck必然有一部分是和wafer接触形成封闭,否则不就漏了嘛。
回复里面不知道怎么贴图,有个剖面图就很简单了。
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2015-12-17 12:11:45
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4楼
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yswyx
at 2015-12-17 12:11:45
chuck起到的作用就是把真空引到wafer的背面,同时起到密闭真空的作用。也就是说,chuck和wafer的背面形成了一个密闭的真空空间。既然是密闭的,那么chuck必然有一部分是和wafer接触形成封闭,否则不就漏了嘛。
回复 ...
您的意思是通过真空腔结构,利用大气压力把wafer固定到chuck上
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5楼
2015-12-17 18:37:51
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【答案】应助回帖
是的,就是这个意思
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6楼
2015-12-17 19:28:07
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6楼
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Originally posted by
yswyx
at 2015-12-17 19:28:07
是的,就是这个意思
多谢师兄赐教
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2015-12-17 23:21:32
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