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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 化学化工区 » 工艺技术 » 工艺设计 » 光刻涂胶机抽真空原理
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克努特

铜虫 (小有名气)

[求助] 光刻涂胶机抽真空原理 已有1人参与

如题，涂胶机托盘和硅基间的真空是如何保障两者不接触的？可否用力学解释下？
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1楼 2015-12-13 16:25:40
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克努特

铜虫 (小有名气)
引用回帖:
6楼: Originally posted by yswyx at 2015-12-17 19:28:07
是的，就是这个意思

多谢师兄赐教
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7楼2015-12-17 23:21:32
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yswyx

专家顾问 (著名写手)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
谁告诉你说匀胶的chuck和wafer不接触的？？？？
被骗了吧
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2楼2015-12-14 19:08:32
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克努特

铜虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by yswyx at 2015-12-14 19:08:32
谁告诉你说匀胶的chuck和wafer不接触的？？？？
被骗了吧

您能仔细说一下么？chuck和wafer之间在涂胶的过程中不是有个真空层么？能介绍下么？
赞一下 回复此楼
3楼2015-12-17 11:20:57
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yswyx

专家顾问 (著名写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★
克努特(明亮的眼眸代发): 金币+5, 感谢交流~~~欢迎常来工艺技术版~O(∩_∩)O 2015-12-17 22:19:40
chuck起到的作用就是把真空引到wafer的背面，同时起到密闭真空的作用。也就是说，chuck和wafer的背面形成了一个密闭的真空空间。既然是密闭的，那么chuck必然有一部分是和wafer接触形成封闭，否则不就漏了嘛。
回复里面不知道怎么贴图，有个剖面图就很简单了。
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4楼2015-12-17 12:11:45
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