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光刻胶显影不干净
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1楼
2015-10-21 10:45:09
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哪家的正胶,做成这样,呵呵!联系打下Plsma
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有事电话说嘛13925288900
6楼
2015-12-03 16:21:35
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fengzikun
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【答案】应助回帖
如果用机械剥离的话,建议显影后再后烘几十秒保证基底干燥增加附着力。建议用磁控溅射度,热蒸镀的附着力比较低。剥离时可用丙酮,或NEP加热浸泡,然后几十秒超声清洗就够了,超声不宜过长。
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路漫漫其修远兮,吾将上下而求索!
2楼
2015-11-25 00:12:08
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tangm
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2楼
:
Originally posted by
fengzikun
at 2015-11-25 00:12:08
如果用机械剥离的话,建议显影后再后烘几十秒保证基底干燥增加附着力。建议用磁控溅射度,热蒸镀的附着力比较低。剥离时可用丙酮,或NEP加热浸泡,然后几十秒超声清洗就够了,超声不宜过长。
...
能超几十秒?膜不会掉吗?
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3楼
2015-11-29 23:50:51
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fengzikun
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3楼
:
Originally posted by
tangm
at 2015-11-29 23:50:51
能超几十秒?膜不会掉吗?
...
电极是用磁控长的,已经过多次实验了
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路漫漫其修远兮,吾将上下而求索!
4楼
2015-12-01 14:32:37
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