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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » SU8 2075 光刻出了大问题
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wellsalon

新虫 (初入文坛)

[交流] SU8 2075 光刻出了大问题

各位大神：

我们实验室用su8-2075做光刻实验，做了几次总不成功，
也是刚学着做光刻，没啥经验
首先，感觉su8-2075，总是涂不匀，不知甩胶有啥技巧?
          看su8胶说明书，有edge bead removal (EBR)去边环节，我们没有去边机，我们还是接触式曝光机，不知这个厚边有没影响？
第二，匀胶完，总有气泡，头疼不已，
第三，光刻完，显影结束，发现严重交联（微结构边缘和微结构间有白色膜去不掉)！！还发先图像变形（如齿轮图）！！
第四，显微镜下发现，零件边缘有裂纹，也不知何原因！！
各位帮忙看看问题出在那？谢谢
工艺过程：想得到200μm的厚度，匀胶转速500r/min,5s；1250r/min,30s，前烘后烘时间都按说明的来，曝光时间40s，显影17min

希望各位赐教：）

SU8 2075 光刻出了大问题
2.2.jpg


SU8 2075 光刻出了大问题-1
3.4 (4).jpg
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1楼 2015-07-30 17:45:00
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东方之殿free

铁虫 (初入文坛)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
匀胶也是很重要的一个过程，有气泡的话可能是滴胶时胶中带有气泡或者喷嘴尖端切口有问题或带刺，可以检查下。另外，旋涂后可以测下胶的膜厚及均匀性，看下数据怎么样
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有志者，事竟成
9楼2015-07-31 15:10:09
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15810770295

新虫 (初入文坛)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
曝光时间过短，显影时间过长导致胶连。
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14楼2015-10-22 10:06:05
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普通回帖

dmbb
★
wellsalon(金币+1): 谢谢参与
2楼2015-07-30 17:57:11
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gltsycw
★
wellsalon(金币+1): 谢谢参与
3楼2015-07-30 17:58:19
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核桃芝麻
★
wellsalon(金币+1): 谢谢参与
4楼2015-07-30 18:17:37
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vincentwz

铁杆木虫 (著名写手)
★
wellsalon(金币+1): 谢谢参与
楼主的各项参数应该自己是要确认一下，不能完全按照data sheet来

[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
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5楼2015-07-30 18:31:31
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wellsalon

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
5楼: Originally posted by vincentwz at 2015-07-30 18:31:31
楼主的各项参数应该自己是要确认一下，不能完全按照data sheet来

您说的对，可是，需要基本判断问题的原因，有针对性的改动参数才好吧，没方向，不知道，那个参数不合适啊。
希望，大神多指点指点
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6楼2015-07-30 18:36:17
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假大空
★
wellsalon(金币+1): 谢谢参与
7楼2015-07-30 18:40:50
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shenrenren
8楼2015-07-30 18:41:36
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wellsalon

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
9楼: Originally posted by 东方之殿free at 2015-07-31 15:10:09
匀胶也是很重要的一个过程，有气泡的话可能是滴胶时胶中带有气泡或者喷嘴尖端切口有问题或带刺，可以检查下。另外，旋涂后可以测下胶的膜厚及均匀性，看下数据怎么样

谢谢，如果不匀，是不是会造成曝光图像的失真呢？
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10楼2015-07-31 15:42:13
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