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[交流]
SU8 2075 光刻出了大问题
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各位大神： 我们实验室用su8-2075做光刻实验，做了几次总不成功， 也是刚学着做光刻，没啥经验 首先，感觉su8-2075，总是涂不匀，不知甩胶有啥技巧? 看su8胶说明书，有edge bead removal (EBR)去边环节，我们没有去边机，我们还是接触式曝光机，不知这个厚边有没影响？ 第二，匀胶完，总有气泡，头疼不已， 第三，光刻完，显影结束，发现严重交联（微结构边缘和微结构间有白色膜去不掉)！！还发先图像变形（如齿轮图）！！ 第四，显微镜下发现，零件边缘有裂纹，也不知何原因！！ 各位帮忙看看问题出在那？谢谢 工艺过程：想得到200μm的厚度，匀胶转速500r/min,5s；1250r/min,30s，前烘后烘时间都按说明的来，曝光时间40s，显影17min 希望各位赐教：）  2.2.jpg  3.4 (4).jpg |
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4楼2015-07-30 18:17:37
vincentwz
铁杆木虫 (著名写手)
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