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刘德涛9107

银虫 (小有名气)

[交流] 求牛人解决关于ALD的问题

小弟最近在沉积氧化铪薄膜,但是前两次沉积的厚度都是为0,前两次的沉积条件是:衬底温度为250,传输管道温度和腔壁的温度都为85,Hf源(四(乙基甲基氨基)铪)的温度75,pulse时间为0.3,purge时间为40,水的pulse时间为0.1,purge时间为80,(由于压强计是连接在和泵的管道的,所以在purge时才能知道原来反应腔体里的压强,当时发现给Hf残余物质进行抽出时),和基本压强相比压强变化很小,而水的变化就比较明显。所以以为是温度不够导致的,但是今天将源加热温度加到90,和基本压强相比貌似压强变化和前面一样,没有多大变化。
所以小弟想问的是给铪源(四(乙基甲基氨基)铪)加热一般要求温度多少比较合适呢?还有就是我这里的Hf源会不会是用完了?
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2楼2015-04-12 16:18:30
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3楼2015-04-12 16:36:27
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4楼2015-04-12 16:44:57
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5楼2015-04-12 16:45:56
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6楼2015-04-12 16:47:41
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7楼2015-04-12 16:59:16
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8楼2015-04-12 17:23:08
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9楼2015-04-12 22:31:34
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nofrunolif

铁杆木虫 (职业作家)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
仪器型号是什么?
10楼2015-04-14 04:04:47
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