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刘德涛9107超级版主
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求牛人解决关于ALD的问题
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小弟最近在沉积氧化铪薄膜，但是前两次沉积的厚度都是为0,前两次的沉积条件是：衬底温度为250,传输管道温度和腔壁的温度都为85，Hf源（四(乙基甲基氨基)铪）的温度75，pulse时间为0.3，purge时间为40,水的pulse时间为0.1，purge时间为80，（由于压强计是连接在和泵的管道的，所以在purge时才能知道原来反应腔体里的压强，当时发现给Hf残余物质进行抽出时），和基本压强相比压强变化很小，而水的变化就比较明显。所以以为是温度不够导致的，但是今天将源加热温度加到90，和基本压强相比貌似压强变化和前面一样，没有多大变化。 所以小弟想问的是给铪源（四(乙基甲基氨基)铪）加热一般要求温度多少比较合适呢？还有就是我这里的Hf源会不会是用完了？ |
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