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lo@丹丹@ve

金虫 (小有名气)

[求助] 求助200nm左右的二氧化硅球的做法已有5人参与

现想以二氧化硅作为模板进行材料合成,相合成200nm左右的二氧化硅颗粒,但是现在的问题是合成出的二氧化硅均在400-500nm之间,求各路大神指导。
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在实现理想的道路上,遇到挫折在所难免,但是只要不放弃,就一定可以实现心中的梦想。
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lo@丹丹@ve

金虫 (小有名气)

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3楼: Originally posted by 风靡815 at 2015-03-28 09:41:40
往大做可以 要是把粒径往小做不容易,我合成一般在150nm左右 比较均匀的,200nm的话也能做出来 现在怎么能做到50nm左右 是个问题

要做小的话,还是用微乳法比较好,我做的一般在50-60nm,能说一下你做的150nm的方法吗?
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11楼2015-04-11 10:58:26
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lo@丹丹@ve

金虫 (小有名气)

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12楼: Originally posted by 风靡815 at 2015-04-12 17:24:40
你咋搞的50nm咧、150一锅煮就能一次得到七八克......

私聊吧。QQ1228873452
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13楼2015-04-13 15:43:30
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lo@丹丹@ve

金虫 (小有名气)

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8楼: Originally posted by 1024285031 at 2015-04-10 20:16:03
就是按照4楼文献里的方法,我当时添加的时候快速添加的TEOS,在一个就是搅拌速度一定要快,我用的磁力搅拌转速位置已经过半了,然后就是继续搅10h,离心就可以了。我看过电镜了分散还挺好均匀性也挺好。具体过程再复 ...

为什么我就是做不均匀呢,有250左右的,有的都有300多,求指导
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14楼2015-04-13 15:44:33
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lo@丹丹@ve

金虫 (小有名气)

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15楼: Originally posted by 1024285031 at 2015-04-13 16:17:57
滴加速度,搅拌速度有关。不均匀的话在滴加过程中速度要快,等滴加完毕一分钟左右减少转速然后就不要再调转速了,保持恒定就可以了。...

是要一开始速度快,然后减速吗?我加TEOS的时候就是一次性加进去的......
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16楼2015-04-13 17:01:46
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lo@丹丹@ve

金虫 (小有名气)

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17楼: Originally posted by 1024285031 at 2015-04-13 20:39:49
是的。我也是一次性加进去,滴加的时候搅拌速度很快,滴加完毕大约一分钟左右再调小转速,这样会均匀成核,多试几次就好了。...

好的,那我再试试,谢谢啦
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18楼2015-04-13 21:13:23
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lo@丹丹@ve

金虫 (小有名气)

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21楼: Originally posted by 李方方123 at 2015-05-25 10:42:18
请问你的400-500纳米的二氧化硅球怎么做的,我需要这么大的,谢谢

你做出来的是多大的呢?
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22楼2015-05-25 13:44:24
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lo@丹丹@ve

金虫 (小有名气)

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23楼: Originally posted by 李方方123 at 2015-05-26 13:04:33
我做的是一百多纳米的不到200纳米...

我们私聊一下吧,交流一下
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24楼2015-05-26 15:34:26
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金虫 (小有名气)

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23楼: Originally posted by 李方方123 at 2015-05-26 13:04:33
我做的是一百多纳米的不到200纳米...

3277493407
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25楼2015-05-26 16:06:08
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