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卤石

新虫 (初入文坛)


[求助] NR26-25000P负胶光刻显影不彻底,大深宽比显影后脱落基底 已有7人参与

我使用的是NR26-2500P负胶,匀胶:转速3000rmp,40s;胶厚大约21-27um;前烘:均匀升温150度,保温7分钟,然后均匀冷却至室温;曝光时间:200s;后烘:均匀加热至90度,保温5分钟,然后均匀冷却至室温;显影:7-10分钟;图案是3um光栅,光栅间距5um,显影未完成图案就有脱落,光栅尺寸10um以上,边角有毛刺;请教对NR26-2500P负胶有经验的人解答相关参数?

NR26-25000P负胶光刻显影不彻底,大深宽比显影后脱落基底
1-150s-1.jpg


NR26-25000P负胶光刻显影不彻底,大深宽比显影后脱落基底-1
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lianglei0427

新虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

我没做过这种厚胶显影,但是这么厚的光刻胶旋凃之后肯定不平,建议匀胶之前用增粘处理,后烘后丙酮擦边,尝试加大曝光量,显影温度控制在20作用,希望对你有帮助(PS:光刻胶越厚,转移图形的精度越差)
8楼2015-04-22 10:54:08
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yuanxin5254

金虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
这个是不是说明粘附性不好,你先检查下晶片上有没有杂质颗粒什么的,然后你试试后烘温度加大一点,还有你后烘后到冷却到室温这个过程在哪里进行的,不行直接在环境下进行。
我们坚持做一件事情,并不是这样做了有效果,而是坚信,这样做了是对的。
2楼2015-03-11 10:57:47
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卤石

新虫 (初入文坛)


引用回帖:
2楼: Originally posted by yuanxin5254 at 2015-03-11 10:57:47
这个是不是说明粘附性不好,你先检查下晶片上有没有杂质颗粒什么的,然后你试试后烘温度加大一点,还有你后烘后到冷却到室温这个过程在哪里进行的,不行直接在环境下进行。

我用的就是普通热板,在净化间光刻实验室里做的,后烘温度是根据胶的说明书来的,你用过这种胶吗?我在对这种胶的参数还把握不准,上面有一张光栅图,是显影过程中张开了,是一个缝隙,有的显影掉了,有的没有,然后内应力就把他张开了,我发现我现在显影不均匀,有的显了有的没显,是不是跟涂胶不均匀有关系
3楼2015-03-11 14:58:31
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yuanxin5254

金虫 (正式写手)

引用回帖:
3楼: Originally posted by 卤石 at 2015-03-11 14:58:31
我用的就是普通热板,在净化间光刻实验室里做的,后烘温度是根据胶的说明书来的,你用过这种胶吗?我在对这种胶的参数还把握不准,上面有一张光栅图,是显影过程中张开了,是一个缝隙,有的显影掉了,有的没有,然 ...

说明书只能用来参考。    有可能胶涂的不均匀,显影掉的地方说明胶薄,没显影掉的地方说明胶厚。还有可能就是胶受到污染,你检查一下。 一般跟显影液没啥关系。
我们坚持做一件事情,并不是这样做了有效果,而是坚信,这样做了是对的。
4楼2015-03-11 16:06:20
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